芯德半导体FOCT‑L埋入式桥接扇出封装完成全流程验证,互连密度提升5倍以上
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作者:佚名
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发布时间: 2025-10-26
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面向2.5D/3D高性能计算的本地硅桥互联方案,支持超大封装面积与低损耗信号传输。
芯德半导体自主研发的FOCT‑L埋入式桥接扇出式高性能芯片互联封装工艺完成全流程技术验证。该工艺通过微米级硅桥(Si‑Bridge)在芯片边缘关键区域构建高密度互连通道,互连密度较传统封装提升5倍以上,信号传输距离缩短至毫米级;以本地硅桥阵列替代单片硅中介层,实现“化整为零”的模块化设计,单中介层可集成2LSI芯片,支持2500mm²超大封装面积,TMV插入损耗<0.3dB/mm,有效解决光刻拼接误差难题,为国产超大算力芯片*提供核心封装支撑